Russian (RU)
Регистрация
Исследование структурных особенностей наноразмерных структур

Атомно-силовая микроскопия (АСМ) поверхности образца  n-Si/SiO2/Ni, облученного ионами 197Au26+ с энергией 350 МэВ и флюенсом   5×108 см-2:  (а) – фазово-контрастное изображение;  (б) – гистограмма распределения высот выростов никеля  в пределах сканируемого участка.

Сканирующая электронная микроскопия (СЭМ) образца  n-Si/SiO2/Ni, облученного ионами 131Xe17+ с энергией 350 МэВ и флюенсом   5×108 см-2: (в) – вид сверху, (г) – скол.

 

 

Изометрическое АСМ изображение поверхности образца n-Si/SiO2/Cu, предварительно облученного ионами 197Au26+ с энергией 350 МэВ и флюенсом 5×108 см-2 (а); гистограмма распределения высот выростов меди в пределах сканируемого участка (б).

СЭМ поверхности после резки сфокусированным ионным пучком образца n-Si/SiO2/Cu, облученного ионами 131Xe17+ с энергией 350 МэВ и флюенсом 5×108 см-2, полученная методом «Cross-section» (в)

 

Рентгенограммы никеля в порах в слое SiO2. Рефлексы кремниевой подложки и диоксида кремния не показаны.

 

На рентгенограмме регистрируются отражения, характерные для поликристаллических осадков металлического никеля – рефлексы (220), (200) и (111). Осаждение кристаллитов никеля происходит в виде нанокластеров размером 30-50 нм стохастически ориентированных в порах. При электроосаждении происходит формирование гранецентрированной кубической фазы Ni с характерным параметром элементарной ячейки a = 0,352 нм.