Исследование структурных особенностей наноразмерных структур |
Атомно-силовая микроскопия (АСМ) поверхности образца n-Si/SiO2/Ni, облученного ионами 197Au26+ с энергией 350 МэВ и флюенсом 5×108 см-2: (а) – фазово-контрастное изображение; (б) – гистограмма распределения высот выростов никеля в пределах сканируемого участка. Сканирующая электронная микроскопия (СЭМ) образца n-Si/SiO2/Ni, облученного ионами 131Xe17+ с энергией 350 МэВ и флюенсом 5×108 см-2: (в) – вид сверху, (г) – скол.
Изометрическое АСМ изображение поверхности образца n-Si/SiO2/Cu, предварительно облученного ионами 197Au26+ с энергией 350 МэВ и флюенсом 5×108 см-2 (а); гистограмма распределения высот выростов меди в пределах сканируемого участка (б). СЭМ поверхности после резки сфокусированным ионным пучком образца n-Si/SiO2/Cu, облученного ионами 131Xe17+ с энергией 350 МэВ и флюенсом 5×108 см-2, полученная методом «Cross-section» (в)
На рентгенограмме регистрируются отражения, характерные для поликристаллических осадков металлического никеля – рефлексы (220), (200) и (111). Осаждение кристаллитов никеля происходит в виде нанокластеров размером 30-50 нм стохастически ориентированных в порах. При электроосаждении происходит формирование гранецентрированной кубической фазы Ni с характерным параметром элементарной ячейки a = 0,352 нм.
|